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高纯度 ALD3 和 ALD6 阀旨在为半导体制造商提供可靠、高速的前体气体计量，用于在沉积室中逐层构建微芯片。高纯 ALD3 和 ALD6 阀门可设置为常闭和常开气动驱动，它们有多种配置可供选择，包括两端口直管和弯管设计；二通、三通和四通多通阀和多阀歧管；以及 1.125 英寸（限 ALD3 系列）和 1.5 英寸平台中的二端口和三端口模块化表面安装阀。可用的热致动器、位置传感器、螺线管和可选的用于容纳加热器筒的主体孔都可以根据用户的特定过程为用户提供额外的价值。

具有高速驱动的高循环寿命

流量系数范围从 0.27 到 0.62，可提供自定义流量系数

使用可选的热致动器可完全浸入高达 392°F (200°C) 的温度

适用于采用标准 316L VIM-VAR 不锈钢阀体的高纯度应用

模块化表面安装、管对接焊和世伟洛克 VCR端接

电子或光学致动器位置感应选项

ALD3 和 ALD6 隔膜由钴基高温合金材料组成，具有强度和耐腐蚀性；阀体由 316L VIM-VAR 不锈钢制成，适用于高纯应用；阀座由全氟化高纯度 PFA 组成，具有广泛的化学兼容性和抗溶胀性和抗污染性。