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MProbe Vis-Thin 薄膜测量系统是一款结构紧凑、功能多样的台式系统。它可以测量不同基底上 10nm - 150µm 厚度范围内的半透明薄膜。而且，它经济实惠，使用方便。MProbe Vis(X) 的生产版本可承受振动，并可通过局域网连接24小时运行。它可用于在线和 OEM 应用。它与无尘室环境兼容。MProbe20 VisX 系统是 MProbe20 Vis 系统的一个版本，在更长波长（> 700 nm）下的灵敏度有所提高。

灵活性高

500 多种扩展材料数据库

可以处理复杂的应用，没有层数限制，支持背面反射率、表面粗糙度、暗淡度等。

集成：轻松集成 TCP 服务器

经济实惠，性价比高

主机（包括光谱仪、光源）

SH200A 样品台，带聚焦镜头和微调装置

光纤反射探头

TFCompanion -RA 软件、USB许可证密钥、包含软件发布、用户指南和其他材料的 USB 记忆棒

USB / LAN 电缆

24VDC 电源适配器（110/220V）

产地：美国

厚度范围： 10 nm - 150 μm

波长范围： 400nm -1000nm（典型校准范围：380-1050nm），VisX 为 450nm -1050nm

波长分辨率： < 小于 1 nm，狭缝为 20 微米（整个光谱均匀一致）

连接： USB / 1 GbE LAN

数据采集速率：1.5kHz（Max）

测量时间：10秒（Min）

精度：<0.01nm 或 0.02%（在 200nm 氧化物上进行 100 次测量的 s.d.）。

准确度：<1nm 或 0.2%（取决于薄膜叠层）

稳定性：< 0.02nm 或 0.2%（每天测量 20 天）

光斑尺寸：< 1 mm

样品尺寸：>= 10 mm

光源：5W TH 灯，10000 小时寿命（可选：20W TH 灯，2000 小时寿命）

可快速可靠地测量大多数半透明或轻吸收薄膜： 氧化物、氮化物、光刻胶、聚合物、半导体（硅、砷化镓、aSi、聚硅等）、硬涂层（SiC、DLC、AlN）、聚合物涂层（Paralene、PMMA、聚酰胺）、ITO、电池间隙、氧化铝、薄金属膜（<50 纳米）等。